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GV10x UHV DS Asher - 플라즈마 클리너
인터넷 검색을 통하여 찾은 경쟁업체의 플라즈마 크리너들은 HV(고진공)에는 호환되지만 UHV (초고진공)에는 적합하지 않거나 사용하지 못할 것입니다. HV 플라즈마 소스를 UHV에 호환하기 위해 필요한 부품들은 비싼 격리 밸브 및 사전펌프 부품들을 요합니다.
GV10x UHV DS Asher는 UHV chamber에 장착하여 millitorr 범위의 초고진공 상태(TMP 100%)를 유지한 채로 플라즈마 세척을 가능하게 하며, 이후에도 제거가 필요 없는 디자인으로 설계되었습니다 이 고정형 플라즈마 소스는 그 어디에서든 유일하며, 비싼 격리 밸브와 사전펌프의 설치가 필요 없습니다.
혁신적인 플라즈마 소스 설계를 통해 GV10x UHV 다운스트림 애셔는 싱크로트론 광학에서 탄화수소 오염을 기존의 타 방식들보다 10배에서 20배까지 더 효율적인 오염 제거 능력을 보여주었습니다.
GV10x UHV DS Asher는 UHV chamber에 장착하여 millitorr 범위의 초고진공 상태(TMP 100%)를 유지한 채로 플라즈마 세척을 가능하게 하며, 이후에도 제거가 필요 없는 디자인으로 설계되었습니다 이 고정형 플라즈마 소스는 그 어디에서든 유일하며, 비싼 격리 밸브와 사전펌프의 설치가 필요 없습니다.
혁신적인 플라즈마 소스 설계를 통해 GV10x UHV 다운스트림 애셔는 싱크로트론 광학에서 탄화수소 오염을 기존의 타 방식들보다 10배에서 20배까지 더 효율적인 오염 제거 능력을 보여주었습니다.
제품설명
인터넷 검색을 통하여 찾은 경쟁업체의 플라즈마 크리너들은 HV(고진공)에는 호환되지만 UHV (초고진공)에는 적합하지 않거나 사용하지 못할 것입니다. HV 플라즈마 소스를 UHV에 호환하기 위해 필요한 부품들은 비싼 격리 밸브 및 사전펌프 부품들을 요합니다.
GV10x UHV DS Asher는 UHV 챔버에 장착하여 millitorr 범위의 초고진공 상태(TMP 100%)를 유지한 채로 플라즈마 세척을 가능하게 하며, 이후에도 제거가 필요 없는 디자인으로 설계되었습니다 이 고정형 plasma source는 그 어디에서든 유일하며, 비싼 격리 밸브와 사전펌프의 설치가 필요 없습니다.
Key Features
- Blazed High Energy Grating Profile 완전 복구
- '오래된 방식의’ Capacitive Antenna source보다 더욱 뛰어난 성능을 제공
- 비산화 표면을 위한 O2/Ar O0 Plasma
- Ni 및 Rh 산화층을 위한 H2/Ar/Ne H0 Plasma
- 7.6의 인수로 증가한 grating 효율
- Blazed High Energy Grating Profile 완전 복구
- 상시 조절 가능한 작동 압력 (최대 5mTorr, 2 Torr까지)
- 확장된 출력 범위 : RF 전원 5-100 와트
- 샘플 손상 없음
- 두가지 컨트롤러 모두에게 적용된 Opto-Isolation을 통한 시스템 PC 보호
- 매우 높은 세척 효율과 균일성
- 타 제품 대비 10배에서 20배정도 더 효율적인 오염 제거 기능
- 수분 내 완료되는 세척 사이클; 타 제품 대비 10배 더 빠른 속도
- 향후 업스케일링 및 H0 오염 제거 기능 개선 진행 중
